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    半導體拋光液 鈮酸鋰LiNbO3晶圓拋光液

    產品分類: 拋光液
      產品名稱:鈮酸鋰晶體拋光液/鈮酸鋰拋光漿料/LN拋光液
      磨料類型:SiO2/Al2O3/CeO2/ZrO2
      磨料粒徑:專利化學配方/可定制
      訂購熱線:17706168670
      精密陶瓷拋光液 CMP納米級拋光液
      精密陶瓷拋光液 CMP納米級拋光液
      吉致電子·精密陶瓷件拋光液·半導體拋光液
      產品名稱:氧化鋯拋光液/氧化鋁拋光液/氮化硅拋光液/氮化鋁拋光液
      產品特點:適用于碳化物、氮化物、氧化物和硼化物各精密陶瓷件的鏡面拋光
      SiC碳化硅襯底研磨拋光產品
      SiC碳化硅襯底研磨拋光產品
      吉致電子·碳化硅研磨拋光·半導體晶圓拋光
      產品名稱:碳化硅研磨液/碳化硅拋光液/碳化硅SIC研磨墊/Sic精拋墊
      產品特點:Politex拋光墊FUJIBO拋光墊國產替代
      半導體拋光液 淺溝槽隔離拋光液 STI拋光液
      半導體拋光液 淺溝槽隔離拋光液 STI拋光液
      產品名稱:淺槽隔離拋光液/STI拋光液/淺溝槽隔離化學機械拋光液
      磨料類型:SiO2/Al2O3/CeO2/ZrO2
      磨料粒徑:10-150nm/全粒徑可定制

        鈮酸鋰拋光液/研磨液·參數吉致電子,CMP拋光材料 可定制·速率高·效果好·專利配方CUSTOMIZABLE, HIGH SPEED, GOOD EFFECT AND PATENTED FORMULA鈮酸鋰晶圓拋光液 LN slurry

        產品名稱:鈮酸鋰拋光液,鈮酸鋰晶圓拋光漿料,鈮酸鋰研磨拋光液,LN拋光液

        產品簡介:為半導體行業/鈮酸鋰晶體晶圓制備的化學機械拋光液/Slurry組合漿料,適用于LiNbO3精密/超精密領域的平坦化高效加工。設計滿足鈮酸鋰(LiNbO3)晶圓提高材料去除率,降低表面粗糙度,獲得超光滑表面。

        鈮酸鋰LN拋光液詳情說明

        吉致電子鈮酸鋰拋光液特點——

        1.用于大規模制造LiNbO3晶片的高性能CMP拋光漿料。

        2.經特殊工藝合成,納米顆粒呈球形,單分散,大小均勻,粒徑分布窄,可獲得高質量的拋光精度。

        3.實現高去除率,無亞表面損傷,并提供出色的穩定性。

        4.PH、粒徑、穩定離子等可以根據要求定制。

        5.適合與各種拋光墊配合拋光使用。


        吉致電子CMP拋光液 金屬拋光液 手機拋光液

        吉致電子鈮酸鋰拋光漿料LN Slurry應用

        為光學表面提供高光潔度

        拋光相關類型的表面(研磨或機械拋光)以實現原子級光滑的表面光潔度


        吉致電子鈮酸鋰(LiNbO3)晶體拋光液 廣泛應用于CMP領域,包括Lapping機、五軸機臺、以及其他研磨拋光機臺等


        鈮酸鋰晶圓拋光液拋光過程中具有:

        從我們的優化解決方案能實現高去除率,無亞表面損傷,同時提供優異的穩定性。

        吉致電子鈮酸鋰晶圓拋光液/LiNbO3Slurry拋光液儲存方法:

        1.貯存時應避免曝曬,貯存溫度為5-35℃

        2.低于0℃以上儲存,防止結冰,在無度以下因產生不可再分散結塊而失效。

        3.避免敞口長期與空氣接觸。

        吉致電子CMP拋光液/Slurry拋光液價格:

        吉致電子的CMP金屬拋光液生產技術是引進國外生產技術和設備,特殊化學配方制備而成。吉致電子拋光液品質可以媲美進口同類產品。

        本土化生產的優勢使吉致電子CMP拋光液產品交貨周期快,品質好,拋光液價格實惠親民。

        吉致電子CMP拋光耗材適用范圍

        吉致電子科技有限公司擁有成熟的加工工藝和先進的生產設備,為不銹鋼、銅、鋁、塑膠、陶瓷、導光板、五金產品、藍寶石、光學玻璃等各類拋光加工服務。為您提供可靠有效的拋光解決方案!

        吉致電子研發團隊--15年經驗CMP拋光液配方工程師,為您攻克拋光難題!

        吉致電子 拋光液研發團隊

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