吉致電子碳化硅精拋液，適用于Sic碳化硅晶圓襯底精密加工表面平坦化。wafer使用的Slurry具有高度拋光、低粗糙度的特點，SiC碳化硅襯底拋光液拋光后的晶圓表面無劃傷、霧等缺陷，碳化硅晶片平坦度高。吉致電子研發的碳化硅拋光液稀釋比高、拋光后表面易清洗，被廣泛應用于半導體集成電路襯底的制造中。

  吉致電子SiC Slurry wafer拋光液具有很好的流動性和分散性，不易結晶、易清洗、拋光效率高等優點，可以滿足碳化硅晶片的精拋加工要求，也可根據客戶工藝調整做定制化硅晶圓(si wafer)化學機械拋光液。

  吉致電子強大的工程師團隊，針對硅晶圓片、鍺片、化合物半導體材料砷化鎵、磷化銦等拋光液有專利配方和工藝流程，歡迎免費咨詢獲取解決方案！

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