吉致電子硅溶膠研磨液/拋光液采用的是納米級工藝，主要粒徑在10-150nm。適用于各種材質工件的CMP表面鏡面處理。

以硅溶膠漿料為鏡面的平面研磨的材料有半導體晶圓、光學玻璃、3C電子金屬元件、藍寶石襯底、LED顯示屏等高精密元件。

  硅溶膠拋光液也稱氧化硅拋光液、二氧化硅精拋液，SiO2是硅溶膠的化學名，適用范圍已擴展到半導體產品的CMP拋光工藝中。

  CMP拋光機可以將氧化硅研磨液循環引入磨盤，同時起到潤滑和冷卻的作用，通過拋光液和拋光墊組合拋磨可以使工件表面粗糙度達到0.2um以下，對表面質量要求高的產品可選擇硅溶膠研磨液。

硅溶膠研磨液可以達到0.9-1.2um/min的去除率，具有去除率高的特點，有效提高拋光生產率，使用起來非常方便。不加水直接使用，不結晶不沉淀分散性佳，拋光效果好，不劃傷工件，無起霧現象，可以實現鏡面效果。

  吉致電子真正CMP拋光液廠家，氧化硅拋光液懸浮性極佳，高固含量、分散性好，易搖散且不團聚，化學性能穩定。氧化硅精拋液拋光效率高，能有效縮短工時，磨拋后工件呈現鏡面效果，無劃傷、高平坦。Slurry免費樣品可聯系：17706168670

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