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    硅溶膠研磨液--精密工件鏡面拋光效果秘密

    文章出處:責任編輯:人氣:-發(fā)表時(shí)間:2023-01-06 13:52【

      吉致電子硅溶膠研磨液/拋光液采用的是納米級工藝,主要粒徑在10-150nm。適用于各種材質(zhì)工件的CMP表面鏡面處理。

    以硅溶膠漿料為鏡面的平面研磨的材料有半導體晶圓、光學(xué)玻璃、3C電子金屬元件、藍寶石襯底、LED顯示屏等高精密元件。

      硅溶膠拋光液也稱(chēng)氧化硅拋光液、二氧化硅精拋液,SiO2是硅溶膠的化學(xué)名,適用范圍已擴展到半導體產(chǎn)品的CMP拋光工藝中。

    吉致電子CMP硅溶膠研磨液精密元件.jpg

      CMP拋光機可以將氧化硅研磨液循環(huán)引入磨盤(pán),同時(shí)起到潤滑和冷卻的作用,通過(guò)拋光液和拋光墊組合拋磨可以使工件表面粗糙度達到0.2um以下,對表面質(zhì)量要求高的產(chǎn)品可選擇硅溶膠研磨液。

    硅溶膠研磨液可以達到0.9-1.2um/min的去除率,具有去除率高的特點(diǎn),有效提高拋光生產(chǎn)率,使用起來(lái)非常方便。不加水直接使用,不結晶不沉淀分散性佳,拋光效果好,不劃傷工件,無(wú)起霧現象,可以實(shí)現鏡面效果。

      吉致電子真正CMP拋光液廠(chǎng)家,氧化硅拋光液懸浮性極佳,高固含量、分散性好,易搖散且不團聚,化學(xué)性能穩定。氧化硅精拋液拋光效率高,能有效縮短工時(shí),磨拋后工件呈現鏡面效果,無(wú)劃傷、高平坦。Slurry免費樣品可聯(lián)系:17706168670

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