二氧化硅拋光液是以高純度硅粉為原料，經特殊工藝制備成的一種低金屬離子高純度CMP拋光產品。 硅溶膠拋光液是以液體形式存在，直徑為10-150nm的二氧化硅粒子（分散相）在水或有機液體（分散介質）里的分散體系，粒子的形貌多為球形，適用于各類工件的鏡面拋光，如金屬、藍寶石襯底、半導體、光學玻璃、精密電子元器件等的鏡面拋光。

 本質上講二氧化硅拋光液、硅溶膠拋光液都是一種東西，主要成分都是SiO₂只是叫法不同。在CMP研磨拋光工藝中，機器通過壓力泵把氧化硅拋光液輸送到拋光槽內進行循環使用，通過拋光墊和拋光液相互摩擦作用達到平坦化表面。目前工提純工藝的提升和制備技術的改進，納米硅溶膠拋光液廣泛用于半導體多種材料納米級的高平坦化拋光。如：硅片、化合物晶體、Oxide氧化層拋光、精密光學器件等。改性硅溶膠的應用領域也涵蓋了化工、醫藥、電子、材料等多個領域。例如，制備光子晶體、電容器等電子器件，開發高性能的納米新材料等。

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