通?；瘜W機械研磨拋光工藝使用的CMP拋光液有金剛石拋光液、氧化硅拋光液、氧化鋁拋光液及氧化鈰拋光液（又稱稀土拋光液）。

  納米氧化鈰為水性液體是吉致電子采用先進的分散工藝，將納米氧化鈰粉體分散在水相介質中，形成高度分散化、均勻化和穩定化的納米氧化鈰水性懸浮液。

1.在拋光材料應用中，納米CeO₂拋光液相對硅溶膠，具有拋光劃傷少、拋光速度快、易清洗良品率高等優勢，且PH中性，使用壽命長、對拋光表面污染小，不易風干。

2.在拋光軍用紅外激光硅片、異型硅、超薄硅片方面上，尤其是拋光超薄硅片，納米氧化鈰較于硅溶膠，瀝青盤聚氨酯拋光盤不會發生抖動，不會擺盤，而硅溶膠配瀝青盤吸盤，吸力比較大，納米氧化鈰拋光液會更加穩定。

3.在拋光應用在硫系軟玻璃材質，磨耗度＞450的軟玻璃方面上，納米氧化鈰較于納米鉆石液，環球zoxn拋光液，氧化鋯拋光液，光潔度更高，可以做到10-5，且穩定性極好，不會出現亮路隱劃傷，易清潔。

4.氧化鈰拋光液耐溫性大于硅溶膠，水性硅溶膠存在溫度升高拋光效率下降的現象，而氧化鈰在50-80℃仍能保持良好的拋光效率。

吉致電子納米氧化鈰拋光液用途：集成電路光掩摸、精密光學、光學鏡頭、顯示玻璃、多芯光釬連接器、藍寶石玻璃、微晶玻璃、精密玻璃的拋光。

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